Phostrip 工藝設(shè)計所考慮的主要方面是釋磷池和固體接觸池 (反應(yīng)澄清池)的大小以及石灰投配率。固體接觸池的尺寸隨釋磷池上清液出流率而變。這將取決于回流至釋磷池的污泥流量、污泥濃縮的程度以及淘洗水為外來時的淘洗水流量，石灰投加流量取決于釋磷池上清液特性和釋磷池上清液流量影響，上清液性質(zhì)影響磷沉淀所需的 pH 提高。

釋磷池的主要設(shè)計步驟如下:

①確定或選擇通過釋磷池的回流污泥量;

②選擇釋磷池底流污泥濃度;

③ 選擇釋磷池污泥固體停留時間;

④ 根據(jù)上述數(shù)據(jù)計算釋磷池所需的污泥體積;

⑤采用固體通量分析或選擇適當?shù)奈勰喙腆w負荷，計算釋磷池面積需求;

⑥ 根據(jù)第④和第⑤步的數(shù)據(jù)確定釋磷池的潭泥深度;

⑦ 選定上清液深度以求釋磷池側(cè)邊總水深，上清液推薦深度為 1.5m，增加以提供更大的污泥貯量和操作靈活性。

進人釋磷池的回流污泥量通常依據(jù)試驗或已有的生產(chǎn)性運行結(jié)果確定。除磷效率與3個主要操作參數(shù)相關(guān): 通過釋磷池的回流污泥量，釋磷池污泥固體停留時間以及釋磷池上清液流量。

  Phostrip 系統(tǒng)需要設(shè)備的 3 個主要區(qū)域是釋磷池、石灰投加系統(tǒng)、化學反應(yīng)澄清池，以及相應(yīng)的輸送管道和泵，包括回流污泥至釋磷池、釋磷池淘洗水供給、釋磷池的污泥送至曝氣池、釋磷池出流輸往化學處理裝置以及把石灰投加到化學處理段。

  釋磷池的構(gòu)造類似于典型的污泥濃縮池，只不過在污泥貯量控制和淘洗方面作了一些改進。該池包括中心進泥井、浮泥 (渣) 擋板、溢流堰、機械刮(吸) 泥機和污泥層液位指示器，此外還有污泥濃度探頭 (選件)。

  石灰投加系統(tǒng)包括貯灰槽、熟化以及泥漿投加和控制系統(tǒng)。石灰與釋磷池上清液的混合可采用靜態(tài)管道攪拌器或在快速混合池中安裝機械攪拌器，快速混合池的停留時間約 1min。

Phosrrip 工藝的化學處理裝置就是固體接觸裝置 (反應(yīng)澄清池)。用較大的錐形側(cè)板在圓形池中央形成混合區(qū)以促進絮凝。在石灰處理方面，先前形成的沉淀物作為新沉淀物和絮體生長的種子。在沉淀過程中，從混合區(qū)下落的較重的污泥絮體沉降在澄清池內(nèi)側(cè)板下面及周圍，然后用機械刮泥板把沉降的污泥刮到位于澄清池中央的污泥排放點。